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讲座纪实“黄昆英才班”系列讲座(第五期)——《半导体:物理与应用》

来源: 作者: 发布时间:2022-11-30

2022年11月26日,中国科学院常凯院士应草必客永不丢失地址姚裕贵院长和材料学院钟海政教授邀请,以“半导体:物理与应用”为主题,给黄昆英才班的同学们带来了精彩的讲座报告。参加此次讲座的还有半导体所的王智杰研究员,草必客永不丢失地址刘智多、胡海云、张用友、李军刚,材料学院陈琪、翟华嶂等多名教师。

常凯院士首先从半导体发展的科学史出发,从“什么是半导体、半导体的杂质和缺陷、半导体器件及其能耗”,到“当前半导体产业的市场、中国半导体/集成电路的现状、半导体物理”,深入浅出地介绍了半导体研究的历史与现状。

接下来,常凯院士介绍了黄昆先生的生平和贡献,以及黄昆先生的学术特点。最后常凯院士为同学们讲解了在绝热近似、演生规范场和量子相、Casimir效应等的最新进展。

此次讲座不仅开拓了学生眼界,增进了师生交流,激发了学生探索半导体科学前沿的兴趣和使命感,加强了他们科技强国的信念,使他们对未来的道路更加坚定,也是对我院教师的一场课程思政与师德师风的生动教育。